使用二十个基本制造步骤完成cmos制造
原创发布 / 2024-04-13
CMOS(互补金属氧化物半导体)制造是一项精密而复杂的过程,它是现代电子行业中最重要的制造技术之一。在这个过程中,我们将使用二十个基本制造步骤来创建一个完美的CMOS芯片。这个过程不仅令人着迷,而且也是我们数字时代的基石。 我们需要准备一个纯净的硅片,这是CMOS芯片的基础。这个硅片经过精密的清洗和磨光,以确保表面的纯净度和平整度。 接下来,我们将在硅片上生长一个薄薄的氧化层,这将成为CMOS芯片的绝缘层。这一步骤是通过将硅片浸入高温氧气中完成的,氧气会与硅发生反应形成氧化硅。 然后,我们需要